Le nettoyage joue un rôle essentiel dans la production de plaquettes de silicium (wafers) ; il garantit la bonne conductivité et le bon fonctionnement des circuits intégrés produits au cours de ce processus. Les plaquettes sont traitées avec une précision nanométrique en de nombreuses étapes et nettoyées plusieurs fois au cours du processus. Le nettoyage avancé utilise du CO2  supercritique, un gaz liquéfié, (SCCO2) qui apporte de nombreux avantages, dont notamment celui de faciliter l'élimination des particules métalliques. Une expérience de la manipulation des gaz liquéfiés, telle que LEWA la possède, est essentielle pour répondre de manière fiable aux exigences de ce type de procédé. LEWA propose des pompes à diaphragme ECOFLOW et Triplex personnalisées dédiées à cette application. Ces dernières sont certifiées compatibles avec les salles blanches, conformément aux normes et aux directives en vigueur.