Cadence collabore avec Samsung Foundry afin d’accélérer la conception de systèmes sur puce pour applications de calcul à grande échelle dans les nœuds de fabrication jusqu’à 4 nm
Cadence Design Systems, Inc. (NASDAQ : CDNS) annonce l’optimisation de son flot complet d’outils numériques Cadence 20.1 pour les technologies de fabrication avancées de Samsung Foundry jusqu’au nœud de 4 nm.
- L’adaptation du flot complet d’outils de conception numérique Cadence 20.1 aux nœuds technologiques avancés de Samsung Foundry afin d’optimiser les paramètres PPA et d’assurer un silicium fonctionnel dès la première itération
- Les flots de référence pour applications de calcul haute performance (HPC) basés sur la technologie iSpatial accélèrent la mise en œuvre des projets de conception.
- Les fonctions d’apprentissage automatique (ML) et les capacités de placement concurrentiel des macrocellules et des précaractérisés (standard cells) améliorent la productivité et optimisent les projets de conception.
Grâce à cette collaboration, les concepteurs peuvent à présent utiliser les outils de Cadence pour obtenir des valeurs de consommations, performances et surface (PPA) optimales et fournir dès la première itération des circuits de haute précision pour les applications de calcul à grande échelle (hyperscale).
Le flot numérique 20.1 de Cadence fournit des capacités parfaitement adaptées aux technologies de fabrication avancées de Samsung Foundry. À titre d’exemple, la technologie iSpatial assure une transition transparente entre la solution de synthèse Genus et le système d’implémentation Innovus grâce à l’utilisation d’une base de données et d’une interface utilisateur communes. Les capacités d’apprentissage automatique (ML — Machine Learning) permettent aux concepteurs d’utiliser les projets de conception existants pour « apprendre » à l’optimiseur GigaOpt comment minimiser les marges de conception par rapport aux flots de placement-routage traditionnels.
Combinée à une architecture de maillage « clock mesh » de haute performance, la technologie numérique GigaPlace XL assure le placement simultané des macrocellules et des précaractérisés (standard cells) — ce qui, en automatisant la phase de « floorplanning », améliore la productivité des concepteurs tout en optimisant la longueur des connections et la consommation d’énergie. L’unification des moteurs d’implémentation, de validation temporelle et de validation des chutes de tension (IR Drop) améliore la convergence du processus de validation et réduit les itérations et les marges de conception. Pour accélérer le processus de conception dans les technologies de fabrication avancées de Samsung Foundry, des exemples de flots sont fournis pour les tâches courantes de calcul haute performance (HPC), telles que le placement simultané de macro-cellules et de précaractérisés, l’architecture en maille « clock mesh », la distribution équilibrée de l’horloge par un arbre en H, le réseau de distribution de l’alimentation et l’optimisation des chutes de tension (IR).
Le flot complet Cadence RTL vers GDS optimisé pour les technologies de fabrication de Samsung Foundry comprend la solution de synthèse Genus, le logiciel de test Cadence Modus DFT (Design-for-Test), le système d’implémentation Innovus, la solution d’extraction Quantus, la solution de validation temporelle Tempus, l’option Tempus ECO (Engineering Change Order — Ordres de modification d’ingénierie), la solution d’analyse de l’intégrité des signaux, d’analyse temporelle statique (STA) et d’analyse de l’intégrité de puissance Tempus Power Integrity, la solution de contrôle de l’intégrité Voltus IC Power Integrity, le vérificateur d’équivalence Conformal®, l’outil de vérification structurelle et fonctionnelle Conformal® Low-Power, l’outil de simulation lithographie Litho Physical Analyzer (LPA), et l’outil CMP Predictor.
Le flot numérique complet Cadence 20.1 s’inscrit dans le cadre de la stratégie Intelligent System Design de Cadence, dont la vocation est d’aider ses clients à atteindre l’excellence dans la conception de systèmes sur puce (SoC).
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